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      鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝

      發布于:12-09

      核心提示:摘要本發明涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工?裝,主要適用于磁控濺射鍍膜設備技術領域。本發?明包括主干框架,主干框架上設置至少?摘要本發明涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工?裝,主要適用于磁控濺射鍍膜設備技術領域。本發?明包括主干框架,主干框架上設置至少一個架設?基片的架設單元,架設單元包括遮擋片、遮擋片固?定梁和被鍍膜片支撐固定架,遮擋片固定梁的兩?端固定在主干框架上,遮擋片通過所述固定孔與?

      鍍膜玻璃主要生產方式

      發布于:05-10

      核心提示:當前鍍膜玻璃主要生產方式當前,在我國使用的鍍膜玻璃主要有以下幾種方式生產:1.真空蒸發鍍膜:利用熱蒸發器的真空鍍膜機生產鍍當前鍍膜玻璃主要生產方式當前,在我國使用的鍍膜玻璃主要有以下幾種方式生產:1.真空蒸發鍍膜:利用熱蒸發器的真空鍍膜機生產鍍膜玻璃,因整體生產是斷續進行的,清洗后的部分玻璃常常需在車間中等待一段時間后方可進行鍍膜室鍍膜,?此時,玻璃會受到二次污染,致使被污染部分鍍上的膜

      我國使用的鍍膜玻璃幾種主要生產方式

      發布于:11-20

      核心提示:我國使用的鍍膜玻璃幾種主要生產方式當前,在我國使用的鍍膜玻璃主要有以下幾種方式生產:1.真空蒸發鍍膜:利用熱蒸發器的真空鍍膜機生產鍍膜玻璃,因整體生產是斷續進行的,清洗后的部分玻璃常常需在車間中等待一段時間后方可進行鍍膜室鍍膜,此時,玻璃會受到二次污染,致使被污染部分鍍上的膜層易脫落,膜層的均勻性差,易有彩虹色差及反射率偏高,??·中國建材網-建材一點通·排名三甲,傲視同行·優秀建材企業

      鍍膜源、真空鍍膜裝置、有機EL面板的制造方法和有機EL面板

      發布于:05-11

      核心提示:摘要本發明可實現獲得良好的圖案形成精度或者膜?厚均勻性的鍍膜。一種在基板(1)的被鍍膜面(la)?上形成薄膜的真空鍍膜裝置的鍍膜摘要本發明可實現獲得良好的圖案形成精度或者膜?厚均勻性的鍍膜。一種在基板(1)的被鍍膜面(la)?上形成薄膜的真空鍍膜裝置的鍍膜源(10),具有:?材料容納部(11),其容納鍍膜材料;加熱裝置(12),其對材料容納部(11)內的鍍膜材料進行加?熱;以及鍍膜流控制

      推廣綠色鍍膜技術促進電鍍行業節能減排

      發布于:12-17

      【全球塑膠網2008年12月5日網訊】 ?傳統電鍍工藝由于使用強酸、強堿及氰化物、鉻酐等有毒有害化學品,產生的廢水成分復雜,對環境和人類危害極大,電鍍廢水的處理一直是工業廢水處理的一大難題。? “綠色鍍膜技術”的研制,是我國電鍍行業的一次技術革命,將有效改變我國電鍍行業資源消耗高、污染嚴重的狀況。? 一、綠色鍍膜技術的主要特點綠色鍍膜技術是指真空離子鍍膜、磁控濺射鍍膜、蒸發鍍

      鍍膜玻璃熱炸裂成因與預防

      發布于:05-15

      隨著現代建筑采用玻璃幕墻的興起,由于鍍膜玻璃的點綴使建筑物絢麗多彩、明亮大方隨著現代建筑采用玻璃幕墻的興起,由于鍍膜玻璃的點綴使建筑物絢麗多彩、明亮大方,并具有節能降耗作用,這些優點得到廣泛公認,但引來幕墻玻璃"光污染"、安全性等系列問題,其中安全性備受矚目!? 不合格的幕墻的安全性主要集中于玻璃的脫落?、玻璃破裂后的掉落。玻璃脫落主要原因在于膠、雙面貼等材料質量不過關、固化時間不夠長、膠

      真空金屬鍍膜UV底漆的研制及影響因素

      發布于:03-30

      核心提示:真空金屬鍍膜UV底漆的研制及影響因素由于輻射固化涂料的綠色環保與高效率,使得該技術在世界范圍內獲得了廣泛重視和快速增長,其應用領域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度,很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術領域,在塑料基材上可獲得十分光亮的金屬外觀。隨著汽車工業的發展,許多金屬替代工藝得到了應用,目前在汽車車燈反射罩應用領域,已經完全采用在PC、BMC等塑料表面通過真空鍍鋁膜來提高反射效果

      真空鍍膜技術的發展與應用

      發布于:06-04

      真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要領域。這一技術目前之所以得到飛速發展是因為它不僅僅是單一的真空應用技術。而是以真空技術為基礎,利用物理或化學的方法,并且吸收了電子束、分子束、離子束、等離了體、射頻、磁控等一系列新的技術,從而為科學研究與生產提供了膜層涂覆的新工藝、新技術的結果。真空鍍膜技術的應用是較早的。本世紀初大發明家愛迪生就提出了唱片蠟膜采用陰極濺射進行表面金屬化的工藝方法,并于1903年

      帶有可轉動的磁控管的大面積組件的鍍膜機

      發布于:12-21

      核心提示:摘要本發明涉及一用于鍍膜的鍍膜機,特別是通過?陰極濺射方法對大面積基片鍍膜的鍍膜機,該鍍膜?機帶有一鍍膜室,且其中設置一陰摘要本發明涉及一用于鍍膜的鍍膜機,特別是通過?陰極濺射方法對大面積基片鍍膜的鍍膜機,該鍍膜?機帶有一鍍膜室,且其中設置一陰極組件(2),在該陰極組件(2)中,用于濺射的材料被設置在具有?彎曲表面的靶(4)上,該用于濺射的材料特別位于?圓柱的側面上;至少3個、優選更多的

      不同切角與鍍膜返回頻率的晶片獲得相同溫度頻差的方法

      發布于:07-13

      核心提示:摘要本發明公開了?一種不同切角與鍍膜返回頻率?的晶片獲得相同溫度頻差的方法,首先用切割機?對石英晶體進行AT型切片,并用鍍膜摘要本發明公開了?一種不同切角與鍍膜返回頻率?的晶片獲得相同溫度頻差的方法,首先用切割機?對石英晶體進行AT型切片,并用鍍膜機對至少兩?片石英晶片進行鍍膜,然后從所得鍍膜石英晶片?中選取至少兩片切角和鍍膜返回頻率不同但溫?度頻差相同的石英晶片,記錄各片鍍膜石英晶片?

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