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      磁控濺射鍍膜常見故障及解決辦法

      發布于:12-21

      磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種,磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

      磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過程中有哪些常見的故障呢?


      磁控濺射鍍膜常見故障及解決辦法


      1.無法起輝


      (1)直流電源故障,檢查直流電源;


      (2)氬氣進氣量小,檢查氬氣流量計或加大氬氣進氣量;


      (3)真空室清潔度不夠,清潔真空室;


      (4)靶材絕緣度不夠,檢查靶是否與地短路,在通水的情況下,對地電阻應該在 50kΩ以上;


      (5)磁場強度不夠,檢查永磁體是否消磁;


      (6)真空度太差,檢查真空系統。


      2.輝光不穩


      (1)電壓電流不穩,檢查電源;


      (2)真空室壓力不穩,檢查氬氣進氣量及真空系統;


      (3)電纜故障,檢查電纜是否連接良好。


      3.成膜質量差


      (1)基片表面清潔度差,清潔基片表面;


      (2)真空室清潔度差,清潔真空室;


      (3)基片溫度過大或過小,檢查溫控系統,校準熱電偶;


      (4)真空室壓力過大,檢查真空系統;


      (5)濺射功率設置不當,檢查直流電源,設置何事的設定功率。


      4.濺射速率低


      (1)氬氣進氣量過大或過小,觀察輝光顏色可以判定氬氣是過大還是過小,據此調整氬氣進氣量;檢修流量計;


      (2)靶材過熱,檢查冷卻水流量;


      (3)檢查永磁體是否消磁。


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